-
![TiAl50:50 at% ruiskutuskohde ruskealle värille]()
TiAl50:50 at% ruiskutuskohde ruskealle värilleTi50 %Al50 % sputterointitavoite, TiAl-seoksen sputterointitavoite, titaani-alumiiniseoksen tavoite: 50 %
Purity:>99.8% (2N8)
Jyvän koko:<100um
Prosessi: HIP
Muoto: Suorakaiteen... -
![Kromi kohde]()
Kromi kohdeKromikohde, Cr-kohde, kromiruiskutuskohde
Puhtaus: 99,5 %-99,99 %
Suorakulmainen maalitaulu, pyöreä kohde, pyörivä kohde
Muovausprosessi: kuumaisostaattinen puristus (HIP)
Perinteinen... -
![Zirkonium-sputterointikohde]()
Zirkonium-sputterointikohdeZirkoniumkohteet, Tasomainen zirkoniumkohde, Zr-sputterointikohde
Purity:>99.5%
Ulottuvuus:
Piirustuksena 12x131x1214mm
Piirustuksena 12x132x1701mm
18x164x1810mm piirustuksena tai... -
![Titaaninen pyörivä sylinterikohde]()
Titaaninen pyörivä sylinterikohdeTitanium Rotary Target magnetronisputterointiin
edistyminen: tyhjiösulatus, CNC, suulakepuristettu
Puhtaus: 99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Muoto: pyörivä, sylinteri, putki
Koko: OD141 *... -
![Monikaareinen Chrome Cr katodikohde]()
Monikaareinen Chrome Cr katodikohdeKromikohteet;kromiruiskutuskohteet
Materiaali: Chrome Cr
Puhtaus: 99,9 % (3N) - 99,99 % (4N) Koko: Halkaisija 100 mm × 40 mm; Halkaisija 100 mm × 45 mm; Halkaisija 100 mm × 50 mm; Halkaisija... -
![Titaaninen pyöreä Target PVD-pinnoitteelle]()
Titaaninen pyöreä Target PVD-pinnoitteelleTitaanikohde, titaanisputterointikohde, pyöreä titaanikohde, titaanilevyKoko: halkaisija 100 mm × 40 mm halkaisija 100 mm × 45 mm halkaisija 100 mm × 50 mm halkaisija 80 mm × 40 mm halkaisija 60...
-
![Titaanidioksidi TiO2 keraaminen sputterointikohde]()
Titaanidioksidi TiO2 keraaminen sputterointikohdeKeraaminen sputterointikohde, titaanioksidisputterointikohde, TiO2-sputterointikohde
Pyöreä: OD25.4mm, OD50mm, OD50.8mm, OD60mm, OD76.2mm, OD80mm, OD101.6mm, OD100mm tai räätälöitynä
Levy:... -
![Titaaninen ruiskutuskohde koristeluun ja muottikenttään]()
Titaaninen ruiskutuskohde koristeluun ja muottikenttääntitaanisputterointitaulu, pyöreä titaanitaulu, titaanilevykohde, pyörivä titaanikohde Puhtaus: 99,7 %-99,995 %(3N-4N5) Raekoko:<100um Application: 1.architectural glass,car using glass,graphic...
-
![NiCr 80:20 painoprosenttia ruiskutuskohteet]()
NiCr 80:20 painoprosenttia ruiskutuskohteetNikkelikromi sputterointikohteet (NiCr 80:20 painoprosenttia) NiCr (80:20 painoprosenttia), Ni80Cr20, NiCr8020, NiCr80/20 painoprosenttia
Puhtaus: 99,5 prosenttia (2N5)
Mitat (mm): Paksuus... -
![Erittäin puhtaat metallit monikaarikohteet]()
Erittäin puhtaat metallit monikaarikohteetmetalliset monikaarimaalit, metalli- ja metalliseostaulut
Materiaali: Titaanikohde, TiAl-seoskohde, Mo, Zr, Ta,Nb, NbZr, Ni,Si,Sn, NiGr(8:2)
Puhtaus: 2N5 - 4N
Käsittelytekniikka: sulate,... -
![Titaaniseoksen sputterointikohteet]()
Titaaniseoksen sputterointikohteetTitaaniseoksesta ruiskuttavat kohteet, pyöreät titaanitaulut, titaaniseostaulut
Material:purity titanium >99,4 %, TiAl, TiZr, TiNb, TiHf, TiAlSi, TiTa, TiCu kohteet
Prosessi: sulatettu,...
Täältä löydät ammattimaiset metallien sputterointikohteiden valmistajat ja toimittajat Kiinasta. Tarjoamme parasta räätälöityä palvelua edulliseen hintaan. Voit olla varma, että tukkumyynnissä oleva metallien sputterointikohde on varastossa tehtaallamme.
